China a pus la punct un prototip de echipament EUV în laboratorul securizat din Shenzhen, conform Reuters. Proiectul, desfășurat discret de ani, marchează un pas important spre autoturismul tehnologic al litografiei EUV în industria semiconductorilor.
Importanța litografiei EUV în industria semiconductorilor
Echipamentele de litografie EUV utilizează fascicule de lumină ultravioletă extremă pentru a grava circuite sub 10 nanometri. Această precizie permite cipuri cu performanțe superioare pentru inteligență artificială, smartphone‑uri și aplicații militare.
Prototipul de echipament EUV din Shenzhen
Prototipul ocupă aproape un etaj de fabrică și a fost construit prin reverse‑engineering, cu ingineri cu experiență în tehnologia EUV. Deși generează lumină EUV, nu a produs încă cipuri funcționale, ceea ce rămâne etapa următoare.
Provocările optice și componentele critice
Tehnologia EUV necesită optică de precizie și piese ultra‑specializate, în mare parte furnizate de vest. Obstacolele principale includ:
– Mirroruri multicoat, care reflectă 90 % din lumina EUV.
– Surse de lumină plasma cu stabilitate ridicată.
– Sistemele de control al vibrațiilor la nivel nanometric.
Perspectivele pentru producția de cipuri funcționale
Guvernul chinez vizează lansarea primelor cipuri pe bază de litografie EUV în 2028, iar experții estimează 2030 ca termen realist. Dacă prototipul trece de testare, va reduce dependența de echipamente occidentale și va intensifica concurența globală în domeniul AI.
Evoluțiile din tehnologia EUV merită monitorizare constantă pentru a înțelege impactul geopolitic și industrial. Informarea continuă rămâne esențială în urma acestor dezvoltări.
